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Moorfield近推出了臺(tái)式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD，高度集成化的高真空高性能臺(tái)式PVD系統(tǒng)。越、高效的性能適用于眾多薄膜的研究工作。

Moorfield與學(xué)術(shù)界緊密合作研發(fā)的臺(tái)式高性能CVD石墨烯/碳納米管快速制備系列可以用來(lái)快速生產(chǎn)高質(zhì)量的石墨烯用于學(xué)術(shù)和應(yīng)用研究。

新代高性能激光浮區(qū)法單晶爐可廣泛用于凝聚態(tài)物理、化學(xué)、半導(dǎo)體、光學(xué)等多種學(xué)科域相關(guān)單晶材料制備，尤其適合高飽和蒸汽壓、高熔點(diǎn)材料及高熱導(dǎo)率材料等常規(guī)浮區(qū)法單晶爐難以勝任的單晶生長(zhǎng)工作。

德國(guó)SciDre公司推出的高壓氧氣氛退火爐溫度可達(dá)850°C，壓力可達(dá)150個(gè)大氣壓?？捎糜诟邏壕w生長(zhǎng)的料棒前處理。也可用于含氧晶體的高溫退火處理。

德國(guó)SciDre 高溫高壓光學(xué)浮區(qū)爐能夠提供2200–3000℃以上的生長(zhǎng)溫度，晶體生長(zhǎng)腔壓力可達(dá)300Bar，甚至10-5mBar的高真空。適用于生長(zhǎng)各種超導(dǎo)材料單晶，介電和磁性材料單晶，氧化物及金屬間化合物單晶等。

日本ADVANCE RIKO公司致力于電弧等離子體沉積系統(tǒng)（APD）用脈沖電弧放電將電導(dǎo)材料離子化，產(chǎn)生高能離子并沉積在基底上，制備納米薄膜鍍層或納米顆粒。